真空等离子表面处理系统PTL-VM500

低温等离子表面处理设备由真空腔体及高频等离子电源、抽真空系统、充气系统、自动控制系统等部分组成。工作基本原理是在真空状态下，等离子作用在控制和定性方 法下能够电离气体，利用真空泵将工作室进行抽真空达到30-40pa的真空度，再在高频发生器作用下，将气体进行电离，形成等离子体（物质第四态），其显著的待点是高均 匀性辉光放电，根据不同气体发出从蓝色到深紫色的彩色可见光，材料处理温度接近室温。这些高度活跃微粒子和处理的表面发生作用，得到了表面亲水性、拒水性、低摩 擦、高度清洁、激活、蚀刻等各种表面改性。

技术参数 ：

1、设备外形尺寸：450mm*400mm*240mm

2、真空仓体尺寸：0151×300（L）mm（5L）

3、仓体结构：不锈钢腔体，内置容性耦合电极，无污染，内置石英托盘

4、等离子发生器：射频，功率0-300W调节，全电路保护，连续长时间工作（风冷）

5、控制系统：PLC触摸屏全自动控制，采用欧姆龙、施耐德等进口品牌电器元件，有手动、自动两种控制模式，真彩台达触摸屏，西门子可编程控制器（PLC），美国产真空压 力传感系统，可在线设定、修改、监控真空压力、处理时间、等离子功率等工艺参数，并具有故障报警、工艺存储等多种功能。在自动模式下设置各项工艺参数，即可一键启 动，连续重复运行，手动模式用于实验工艺以及设备维护维修。

工艺流程：

1、处理工艺流程装入工件一抽真空→冲入反应气体→等离子放电处理一回冲气体→取出工件

2、工艺控制：

2.1处理时间控制：1秒~120分钟连续可调；

2.2等离子放电压力：30～50Pa；

2.3功率设定范围：0~300W连续可调；

2.4流量设定范围：气体1（0~300ml/min）气体2（0~500ml/min）。