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  • 使用等离子清洗机的时候有哪些注意事项等离子清洗机是通过对样品表面进行改性,同时除掉表面有机物,使多种材料之间能够进行贴合、涂覆、镀膜等工艺操作。从研究开发到工艺生产使用,从表面微细加工到表面处理改质效果都非常好,应用广泛。下面就为大家介绍一下在使用等离子清洗机的时候有哪些注意事项。1、设备操作人员要经过专业培训,才能上岗。因为这样子才能最大限度的减少人员与设备的伤害,正确使用等离子清洗设备,才能提高设备利用率与使用寿命。2、请勿将等离子清洗设备放置潮湿及粉尘太多环境下工作,以免电子零件容易损坏。3、等离子设备的...

    202211-12

  • 工艺不同,等离子清洗机的分类也有所不同等离子清洗机除了具有超清洗功能外,在特定条件下还可根据需要改变某些材料表面的性能,等离子体作用于材料表面,使表面分子的化学键发生重组,形成新的表面特性。对应不同的污染物,应采用不同的清洗工艺,根据选择的工艺气体不同,等离子清洗分为化学清洗、物理清洗及物理化学清洗。1化学清洗:表面作用以化学反应为主的等离子体清洗,又称PE。氧等离子体通过化学反应可使非挥发性有机物变成易挥发的H2O和CO2。氢等离子体通过化学反应可以去除金属表面氧化层,清洁金属表面。2物理清洗:表面作用以物理反...

    202210-15

  • 匀胶烤胶机的这样维护方式更有效匀胶烤胶机采用智能程序化控温技术,控温精准均匀,加热快速高效,维修简单方便,控温范围在室温-360℃之间,控温精度达到0.1℃。适用于各种控温精度高,加热均匀性要求高的实验室。机器的好与不好,大都取决于你怎么使用,然而大多数的使用者都是没有受过培训的,只能根据一纸说明书在操作,很难达到理想状态。1.在放置和取下陶瓷插芯时,注意光纤的弯曲程度,勿使光纤折断。2.烤胶时,注意加热板上不要沾到胶水。3.操作时,靠近加热板应注意,切勿被烫伤。4.加工完后手不能碰陶瓷头,以免烫伤。5....

    20229-12

  • harvard注射泵Elite的部件主要是五个方面harvard注射泵Elite由步进电机及其驱动器、丝杆和支架等构成,具有往复移动的丝杆、螺母,因此也称为丝杆泵。螺母与注射器的活塞相连,注射器里盛放药液,实现高精度,平稳无脉动的液体传输。工作时,由控制系统发出脉冲控制信号使步进电机工作,步进电机驱动丝杆旋转,推动注射器的活塞进行注射输送液体。1、主控模块:用单片机来实现对整个系统的控制,包括工作控制、参数计算、键盘输入状态显示、压力检测,自动标注和自动报警等功能。2、电源电路:由电源选择、充电部分及电压提升部分组成。电源电...

    20228-14

  • 关于小型台式无掩膜光刻机的特点与应用小型台式无掩膜光刻机是指计算机控制的高精度光束聚焦投影至涂覆有感光材料的基材表面上,无需掩膜直接进行扫描曝光,节约了生产成本和周期并可以根据自己的需求灵活设计掩膜。无掩膜光刻是从传统光学光刻技术衍生出的一种新技术,因为其曝光成像的方式与传统投影光刻基本相似,区别在于使用数字DMD代替传统的掩膜,其主要原理是通过计算机将所需的光刻图案通过软件输入到DMD芯片中,并根据图像中的黑白像素的分布来改变DMD芯片微镜的转角,并通过准直光源照射到DMD芯片上形成与所需图形一致的光图像投射...

    20227-15

  • 微流体压力控制器的设定值怎么调整?微流体压力控制器由多个部件组成,包括泵,阀门,传感器、储液管,管线等,用于气体、液体或液体混合物的微流量控制,流量一般低于50ml/min。与注射泵相比,具有更高的精度,以及更快的稳定时间,可以快速达到所需流量并稳定。设定值为上切换值的调整方法:选用设定范围在(0.05~2.5)MPa的控制器,要求上限切换值为2.0MPa。1、松开锁紧器,将控制器旋入校验台的螺纹接口上;打开盖板,将电缆穿过电缆接口接入端子板,电缆另一头接上万用表;2、加压至2.0MPa,此值可由标准压力表读...

    20226-20

  • harvard注射泵Elite的主要部件介绍harvard注射泵Elite是生命科学研究中常见的用于长时间进行均匀微量注射的仪器,在实验中合理使用微量注射泵可以大大减轻工作人员的劳动强度,同时精确地控制各种试剂的使用量。整个系统则由控制系统、输入系统、输出系统、步进电机、状态检测系统、注射器、电源、报警系统等部件组成。1、主控模块用单片机来实现对整个系统的控制,包括工作控制、参数计算、键盘输入状态显示、压力检测,自动标注和自动报警等功能。2、电源电路由电源选择、充电部分及电压提升部分组成。电源电路提供元件的工作电源,能...

    20225-7

  • 等离子体去胶的影响因素干法式去胶又被称为等离子去胶,其原理同等离子清洗类似,主要通过氧原子核和光刻胶在等离子体环境中发生反应来去除光刻胶,由于光刻胶的基本成分是碳氢有机物,在射频或微波作用下,氧气电离成氧原子并与光刻胶发生化学反应,生成一氧化碳,二氧化碳和水等,再通过泵被真空抽走,完成光刻胶的去除。温度对去胶的影响就去胶速率和效果而言,温度对去胶速率影响最大,温度越高,反应腔内氧气离子越活跃,化学反应越剧烈,去胶效果也越好,但是过高的加热温度,可能对其基底本身造成损伤,影响基板成品率,并且射频本身...

    20224-14

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