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小型台式无掩膜光刻机

简要描述:小型台式无掩膜光刻机,MicroWriter ML3 是一款多功能激光直写光刻系统,具有结构小巧紧凑(70cm x 70cm x 70cm),无掩膜直写系统的灵活性,还拥有高直写速度,高分辨率的特点。采用集成化设计,全自动控制,可靠性高,操作简便。适用于各种实验室桌面。

  • 产品型号:MicroWriter ML3
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2022-03-09
  • 访  问  量:194
详细介绍

传统的光刻工艺中所使用的铬玻璃掩膜板需要由专业供应商提供,但是在研发环境中,掩膜板的设计通常需要经常改变。无掩膜光刻技术通过以软件设计电子掩膜板的方法,克服了这一问题。与通过物理掩膜板进行光照的传统工艺不同,激光直写是通过电脑控制一系列激光脉冲的开关,在光刻胶上直接曝光绘出所要的图案。

MicroWriter ML3 是一款多功能激光直写光刻系统,具有结构小巧紧凑(70cm x 70cm x 70cm),无掩膜直写系统的灵活性,还拥有高直写速度,高分辨率的特点。采用集成化设计,全自动控制,可靠性高,操作简便。适用于各种实验室桌面。

小型台式无掩膜光刻机应用领域

小型台式无掩膜光刻系统是英国Durham Magneto Optics公司专为实验室设计开发,为微流控、SAW、半导体、自旋电子学等研究领域提供方便高效的微加工方案。

MicroWriter小型台式无掩膜光刻机产品特点

Focus Lock自动对焦功能
Focus Lock技术是利用自动对焦功能对样品表面高度进行探测,并通过Z向调整和补偿,以保证曝光分辨率。

 

 

直写前预检查
软件可以实时显微观测基体表面,并显示预直写图形位置。通过调整位置、角度,直到设计图形按要求与已有结构重合,保证直写准确。

 

标记物自动识别

点击“Bulls-Eye”按钮,系统自动在显微镜图像中识别光刻标记。标记物被识别后,将自动将其移动到显微镜中心位置。

 

 

光学轮廓仪

MicroWriter ML3 配备光学轮廓探测工具,用于匀胶后沉积层,蚀刻层,MEMS等前道结构的形貌探测与套刻。Z向最高精度100 nm,方便快捷。

 

简单的直写软件

MicroWriter 由一个简单直观的Windows界面软件控制。工具栏会引导使用者进行简单的布局设计、基片对准和曝光的基本操作。该软件在Windows10系统下运行。

 

 

Clewin 掩模图形设计软件

+  可以读取多种图形设计文件

(DXF, CIF, GDSII, 等)

+  可以直接读取TIFF, BMP 等图片格式

+  书写范围只由基片尺寸决定

0.4 μm特征线宽曝光结果

 

 

直写分辨率1μm

 

直写分辨率0.6μm

 

灰度直写

 

微结构/微器件/微电极制备

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

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