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关于小型台式无掩膜光刻机的特点与应用

时间:2022-07-15  点击次数:106
   小型台式无掩膜光刻机是指计算机控制的高精度光束聚焦投影至涂覆有感光材料的基材表面上,无需掩膜直接进行扫描曝光,节约了生产成本和周期并可以根据自己的需求灵活设计掩膜。
 
  无掩膜光刻是从传统光学光刻技术衍生出的一种新技术,因为其曝光成像的方式与传统投影光刻基本相似,区别在于使用数字DMD代替传统的掩膜,其主要原理是通过计算机将所需的光刻图案通过软件输入到DMD芯片中,并根据图像中的黑白像素的分布来改变DMD芯片微镜的转角,并通过准直光源照射到DMD芯片上形成与所需图形一致的光图像投射到基片表面,并通过控制样品台的移动实现大面积的微结构制备。
 
  特点:
 
  显微镜LED曝光单元UTA系列是不需要掩模的用于光刻的图案投影曝光装置。
 
  使用金相显微镜盒LED光源DLP投影仪,将具有机微米分辨率的任意图案投影到涂有抗蚀剂的基板上进行曝光。
 
  图案可以在PC上自由创建。
 
  因为可以在普通的室内环境中在各种大小盒形状的单晶薄片上形成电极,所以它比电子束光刻便宜且简单,不需要制造昂贵的电极图案掩膜。
 
  应用:
 
  薄膜FET和霍尔效应测量样品的电极形成。
 
  从石墨烯/钼原石中剥离电极形成并评估其特性。
 
  研发应用的图案形成。
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