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技术文章

2022

9-12
匀胶烤胶机的这样维护方式更有效
匀胶烤胶机采用智能程序化控温技术,控温精准均匀,加热快速高效,维修简单方便,控温范围在室温-360℃之间,控温精度达到0.1℃。适用于各种控温精度高,加热均匀性要求高的实验室。机器的好与不好,大都取决于你怎么使用,然而大多数的使用者都是没有受过培训的,只能根据一纸说明书在操作,很难达到理想状态。1.在放置和取下陶瓷插芯时,注意光纤的弯曲程度,勿使光纤折断。2.烤胶时,注意加热板上不要沾到胶水。3....

2022

8-14
harvard注射泵Elite的部件主要是五个方面
harvard注射泵Elite由步进电机及其驱动器、丝杆和支架等构成,具有往复移动的丝杆、螺母,因此也称为丝杆泵。螺母与注射器的活塞相连,注射器里盛放药液,实现高精度,平稳无脉动的液体传输。工作时,由控制系统发出脉冲控制信号使步进电机工作,步进电机驱动丝杆旋转,推动注射器的活塞进行注射输送液体。1、主控模块:用单片机来实现对整个系统的控制,包括工作控制、参数计算、键盘输入状态显示、压力检测,自动标...

2022

7-15
关于小型台式无掩膜光刻机的特点与应用
小型台式无掩膜光刻机是指计算机控制的高精度光束聚焦投影至涂覆有感光材料的基材表面上,无需掩膜直接进行扫描曝光,节约了生产成本和周期并可以根据自己的需求灵活设计掩膜。无掩膜光刻是从传统光学光刻技术衍生出的一种新技术,因为其曝光成像的方式与传统投影光刻基本相似,区别在于使用数字DMD代替传统的掩膜,其主要原理是通过计算机将所需的光刻图案通过软件输入到DMD芯片中,并根据图像中的黑白像素的分布来改变DM...

2022

6-20
微流体压力控制器的设定值怎么调整?
微流体压力控制器由多个部件组成,包括泵,阀门,传感器、储液管,管线等,用于气体、液体或液体混合物的微流量控制,流量一般低于50ml/min。与注射泵相比,具有更高的精度,以及更快的稳定时间,可以快速达到所需流量并稳定。设定值为上切换值的调整方法:选用设定范围在(0.05~2.5)MPa的控制器,要求上限切换值为2.0MPa。1、松开锁紧器,将控制器旋入校验台的螺纹接口上;打开盖板,将电缆穿过电缆接...

2022

5-7
harvard注射泵Elite的主要部件介绍
harvard注射泵Elite是生命科学研究中常见的用于长时间进行均匀微量注射的仪器,在实验中合理使用微量注射泵可以大大减轻工作人员的劳动强度,同时精确地控制各种试剂的使用量。整个系统则由控制系统、输入系统、输出系统、步进电机、状态检测系统、注射器、电源、报警系统等部件组成。1、主控模块用单片机来实现对整个系统的控制,包括工作控制、参数计算、键盘输入状态显示、压力检测,自动标注和自动报警等功能。2...

2022

4-14
等离子体去胶的影响因素
干法式去胶又被称为等离子去胶,其原理同等离子清洗类似,主要通过氧原子核和光刻胶在等离子体环境中发生反应来去除光刻胶,由于光刻胶的基本成分是碳氢有机物,在射频或微波作用下,氧气电离成氧原子并与光刻胶发生化学反应,生成一氧化碳,二氧化碳和水等,再通过泵被真空抽走,完成光刻胶的去除。温度对去胶的影响就去胶速率和效果而言,温度对去胶速率影响最大,温度越高,反应腔内氧气离子越活跃,化学反应越剧烈,去胶效果也...
关于我们
公司提供各类微细加工服务和工艺流程设计咨询,为各大科研院所提供多种单项加工或综合类器件开发服务。公司与国内多家研究单位和公司机构有长期的委托加工合作关系,设备齐全,服务及时,适合各类加工需求。主要从事半导体和MEMS领域微细加工设备的销售。公司目前主要销售的产品是晶圆键合设备、晶圆喷胶设备、基础工艺设备和检测设备等半导体先进工艺设备。公司主要业务面向国内科研院所和高校、以及科技创新型的中小企业,帮助客户实现最快速度取得科研和生产用耗材。公司目前经营的产品有各类委托加工、设备、硅片、特殊衬底、光刻胶、高纯度试剂、超净耗材、货源优质,响应速度快,国内外货源充实。公司拥有一只高素质的服务队伍,长期从事微细加工领域的工作,致力于帮助广大科研和科技创新工作者实现梦想,为您提供优质的服务。公司已与国内众多科研单位进行了广泛的业务合作,高质量的产品与服务为我们赢得了良好的信誉,期待更多的用户能够和我们建立更长久的合作关系。...
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